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X-ray photoelectron spectroscopy(PHI)
X-선 광전자 분광기(PHI)
  • 호실
    9호관 213호
  • 제조사(국가)
    ULVAC-PHI ()
  • 모델
    PHI 5000 Versa Probe Ⅱ
  • 도입일자
  • 연락처
    032-835-4219
예약/신청하기
즐겨찾는기기 추가
신청가능 시간    2024-11-07 이후 사용 예정건만 예약 가능
09:00 - 17:00 09:00 - 17:00 09:00 - 17:00 09:00 - 17:00 09:00 - 17:00 X X

1. 샘플 로딩 시 인트로 챔버에서 대기시간이 필요하오니, 실제 측정 시간 외 1시간을 추가하여 예약해주시기 바랍니다.

   (샘플 당 측정시간을 모를 경우 담당자와 상의 바랍니다)

2. "담당자 일정"은 타장비 예약이 있는 경우로 클릭하여 보시면 예약시간 확인이 가능합니다.  

    그 외 시간은 예약 가능합니다.

3. 수요일 오전 11시 이후 실험실 및 기관별 예약제한이 미적용됩니다.

4. 연속 예약을 위하여 12:00~13:00 예약이 가능하도록 변경하였으나 점심시간에 측정 여부는 담당자와 상의 바랍니다.     

원리 및 특성

시료의 표면에 특성 X선을 입사하여 방출되는 광전자의 운동에너지를 측정함으로써 원자상의 결합에너지를 측정할 수 있다.

분석하고자하는 시료의 표면상의 조성 및 화학적인 결합상태를 알 수 있고, Monochromator가 장착된 Al X-ray source를 사용할 경우, 높은 분해능에 의한 결과를 얻을 수 있다.

또한, Ar Ion gun을 이용하여 시료 표면의 cleaning 및 etching을 통하여 깊이에 따른 조성 분포를 알아보는 depth profiling 실험도 가능하다.

표면상의 얇은 층에 대한 분석이 가능하므로 표면 원자층에 대한 선택적인 분석 및 depth profiling에 의한 박막의 성장 메커니즘 연구 분야에도 사용된다.

규격

- 2012년 7월도입

▶Model : PHI 5000 VersaProbe ll
▶Specification
1. Charge Neutralization System
   1) Methode : Dual beam charge neutralization or equivalent methode
   2) Analysis for insulating samples
2. Minimum X-ray beam size : 10㎛
3. XPS Energy Resolution : 0.50eV FWHM for Ag 3d 5/2 peak
4. XPS Elemental Sensitivity vs Resolution on Ag Sample
5. Max Current of Ar Sputter Gun :≥ 5.0 ㎂at 5㎸

적용(응용)분야
사용료

◎ 수수료 10% 미포함

◎ 해당 요금은 교외요금 기준으로 교내의뢰시 50% 감면

◎ 최초 1시간 기본사용료 청구 후 30분 단위 청구가능 (09:30-10:00예약제외)

◎ 직접사용 가능 기기는 교내외 교육 후 이용 가능

 

* 신규 FE-SEM장비 JSM IT-800 는 ​​​현재 프로모션으로 FE-SEM_7800F와 가격 동일 

 (추후 변동 예정)

분석항목 단가(직접사용) 단가(분석의뢰) 단위 비고
기본(시간)
50,000원
30분 최초 1시간 이후 30분 단위 청구
depth
60,000원
30분 최초 1시간 이후 30분 단위 청구
사용
50,000원
30분 페널티
관련자료


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